金融界 2025 年 5 月 10 日音讯，国家知识产权局信息数据显现，SK 恩普士有限公司请求一项名为“抛光垫及运用其制作半导体器材的办法”的专利，公开号 CN119927785A，请求日期为 2024 年 11 月。

　　专利摘要显现，依据一施行方法，抛光垫可在特定频率范围内削减噪音和振荡。因而，抛光垫具有优异的吸音特性，因其依据方程式 1 在 500Hz 至 4,000Hz 的频率测得的最大吸音系数满意 0.1 以上。因而，因为其可以最好可以下降在 CMP 抛光工艺中因为热能或振荡能引起的能量丢失，其具有优异才能的抛光速率。